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铝蚀刻→胺系退膜设
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MP系列
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TS系列
简易超小型|超小型显影/蚀刻/退膜实验设备
铝蚀刻→胺系退膜设
通过高精度蚀刻系统实现完美间距
·超大型基板也对应。
用途
玻璃基板上的铝膜蚀刻掉,用胺系退膜药液退去胶片干膜
规格例
设备尺寸(L×W×H)
:
12356 × 2200 × 1500mm
基板尺寸(有效幅)
:
420mm
处理液
:
蚀刻:磷酸-硝酸-醋酸
退膜:胺系
输送速度
:
0.5~5m/min
流水线高度
:
操作方式
:
生产线示意图
※根据使用药液不同,设备材料也会不同。
※其余的特殊要求也可商谈。